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采用俄罗斯UVN0．5D2I离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18C14V基材上沉积TiAlN膜层；利用N离子束对膜层沉积之前的预处理和膜层沉积时的辅助轰击，并用SEM、X射线衍射和力学测试等手段研究了N离子束轰击对膜层表面形貌、相结构、显微硬度影响．结果表明：N离子束的预处理在基材表面形成了一定厚度N的过渡层；N离子束对膜层的辅助轰击，明显地降低了膜层表面“大颗粒”的密度，改善了膜层的表面形貌；同时，形成了由过渡层成分与膜层成分动态混合的扩散层；无N离子轰击时，TiMN膜层是由（TiM）N相和Ti