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采用电沉积法在碳化硅纳米线薄膜上沉积镍硫合金,制备碳化硅纳米线/镍硫合金薄膜复合电极,采用 场发射扫描电子显微镜( FESEM)、 X射线衍射( XRD)、阴极极化曲线(LSV)等分析测试方法对该薄膜的形貌、结构 和电化学性能进行了表征.结果表明:镍硫合金沉积层主要以Ni3S2 结晶态的形式覆盖在碳化硅纳米线薄膜表面,纳米线沉积合金前直径约80 nm ,沉积后增大到100nm左右.重点研究了Ni3S2/SiC 电极在光照前后的光电性能, 在1MKOH 溶液中的LSV曲线测试表明: Ni3S2/SiC 电极