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超导薄膜实现布图布线工艺是制备超导电子元件的必要步骤。报道了两种二硼化镁超导薄膜布图布线的湿法刻蚀技术：一种是先利用双氧水（H2O2）刻蚀前驱体硼薄膜，然后将刻蚀的样品放入钽坩埚中在镁蒸气下高温退火，实现了对超导薄膜二硼化镁（MgB2）布图布线的刻蚀；另一种是选用氢氟酸（HF）和硝酸（HNO3）的混合溶液直接在二硎化镁超导薄膜上进行图形刻蚀。通过上述两种方法刻蚀出的Mg拽薄膜图形精确度高，超导转变温度L都在38K以上，临界电流Ic约为l×10^6A／cm^2。