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期刊论文
钨粉化学镀铜对压制性能的影响
钨粉化学镀铜对压制性能的影响
来源 :电子科技 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wcqadam
【摘 要】
:
通过钨粉表面化学镀铜,使其表面包覆一层均匀的诱导铜膜,以此制备W-15Cu电子封装材料。采用扫描电镜和双对数压制方程理论分析,研究钨粉表面化学镀铜含量对钨粉压制性能的影响,结
【作 者】
:
刘永旺
姜国圣
王志法
吴泓
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第13研究所物资处,中南大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
电子科技
【发表日期】
:
2013年7期
【关键词】
:
化学镀铜
钨粉
压制性能
electroless plating copper
tungsten powder
pressing properties
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通过钨粉表面化学镀铜,使其表面包覆一层均匀的诱导铜膜,以此制备W-15Cu电子封装材料。采用扫描电镜和双对数压制方程理论分析,研究钨粉表面化学镀铜含量对钨粉压制性能的影响,结果表明钨粉表面化学镀铜可改善其压制性能,且随化学镀铜含量的增加,压制同等生坯密度的制品压力增大。
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