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近年来随着半导体工艺水平的提高,LDMOS技术迅速发展,性能逐步提升.本文研究了应用于LDMOS的钨塞互连多层金属布线技术,通过对高选择比、高深宽比介质通孔刻蚀工艺,钨塞制作工艺,平坦化工艺的研究实验,实现了介质总厚度达10μm的钨塞互连低电阻率的四层金属布线工艺.
LDMOS钨塞互连多层金属布线技术研究
【摘 要】
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近年来随着半导体工艺水平的提高,LDMOS技术迅速发展,性能逐步提升.本文研究了应用于LDMOS的钨塞互连多层金属布线技术,通过对高选择比、高深宽比介质通孔刻蚀工艺,钨塞制作
【机 构】
：
中国电子科技集团公司第十三研究所 河北 石家庄 050051;河北科技大学建筑工程学院 河北 石家庄 050000
【出 处】
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商品与质量
【发表日期】
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2018年15期
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