ICP发射光谱的外加磁场效应

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武汉大学化学系郁乃祥等通过各种条件对氩ICP光源外加磁场效应进行了试验。他们指出了氩ICP光源的新特性:垂直于ICP轴线,强度为0到500高斯的外加磁场对于ICP的发射光谱和等离子体的参数均无显著影响,环状氩ICP是相当稳定的体系,为此,ICP光源 Yu Nai-cheng, Department of Chemistry, Wuhan University and other conditions through a variety of conditions on the ICP ICP source magnetic field effects were tested. They pointed out the new features of the argon ICP light source: perpendicular to the ICP axis, an applied magnetic field with an intensity of 0 to 500 gauss had no significant effect on ICP emission spectra and plasma parameters, and cyclic argon ICP was a fairly stable system This, ICP light source
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