钝化多孔硅的光致发光

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:shinemun
下载到本地 , 更方便阅读
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
选用含有胺基的正丁胺(CH3CH2CH2CH2-NH2)作碳源,采用射频辉光放电法制备碳膜对多孔硅进行碳膜钝化,其光致发光谱和存放实验表明:正丁胺对多孔硅进行钝化是一种十分有效的多孔硅后处理途径.研究了钝化多孔硅的光致发光谱随钝化温度和钝化时间的变化关系,其结果显示:通过调节钝化条件可实现钝化多孔硅最大的发光效率和所需要的发光颜色.
其他文献
介绍了在"闪光二号"脉冲电子束加速器上采用PVDF压电传感技术测量编织材料等的电子束热激波传播特性的情况.实验得出:(1) 在能注量为90~210J/cm2范围内,对4mm厚的编织材料及其
以Pd(Ph3P)4为催化剂, 在相转移条件下, 高产率地合成了丙二酸二乙酯。讨论了温度、碱的种类与浓度、催化剂及相转移催化剂对丙二酸二乙酯收率的影响。通过对常压下反应动力
采用建立在边界层理论基础上的复合材料层压板孔边层间应力分析方法,计算了层间加胶膜层压板的孔边应力,还采用三维有限元方法分析层间加胶膜层压板的层间应力边缘效应.结果
研究在空气及氧气顶吹条件下的V2O5熔融态对所产生的V2O5*nH2O凝胶薄膜结构和形貌的影响.XRD和SEM分析表明, 2种方法制备的V2O5*nH2O凝胶薄膜的结构有细微差别.经过一定温度
为研究气相扩散速率对溶菌酶晶体生长的影响,特设计了一种可方便调节气相扩散速率的晶体生长样品池,并用动态光散射法对不同气相扩散速率下晶体生长过程进行了研究.实验结果
论证了只要合适选择中间界面层的弹性常数,各向异性线弹性固体在远场均匀反下面剪切应力作用下三相椭圆夹杂内椭圆上仍存在均匀应力场.讨论了内外两椭圆除过其中心相同外无其它
在对垂直二层膜介质的输出信号随时间衰减的实验测试中 ,发现当使用单磁极磁头兼作读写磁头时 ,输出电压的变化量很大 .通过对这一现象的研究发现 ,影响介质退磁的外界原因主
针对光强为超高斯分布的激光束被圆孔截割的情况计算了聚焦区的光强度分布,给出了依赖于激光强度的理论电离体积,并由此研究多光子电离过程中多级电离的电离产额对激光强度的
采用预聚法、半预聚法和一步法合成了一系列介入导管用聚氨酯材料,应用傅立叶变换红外光谱(FT-IR)、示差扫描量热技术(DSC)和透射电子显微镜(TEM)研究材料的微观结构.结果表
采用拉格朗日变分法在同时考虑本信道放大自发辐射(ASE)噪声、相邻信道信号对本信道信号和ASE噪声等多种因素影响的情况下,分析了色散控制孤子的传输演化特性,给出了准稳态色