【摘 要】
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通过理论和四极质谱法（QMS）获得了氦辉光放电清洗时的氢释放特性和氦再释特性，氢在GDC（He）时的出气为双指数衰减规律，但壁脱附的衰减常数远大于机组和电离抽除的衰减时间常数，故主要
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通过理论和四极质谱法（QMS）获得了氦辉光放电清洗时的氢释放特性和氦再释特性，氢在GDC（He）时的出气为双指数衰减规律，但壁脱附的衰减常数远大于机组和电离抽除的衰减时间常数，故主要表现为脱附衰减特性，这与实验基本相符。GDC（He）后硅化层中的氦再释出气率的规律为：氦的再释放与时间的－3／2成正比。
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