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研究了ＰＥＣＶＤ生长ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ膜过程中ＳｉＨ４气体稀释比，平衡反应气压、衬底温度、等离子体射频功率和直流负偏压等各种工艺参数对生成膜层质量的影响，探讨了提高膜层质量的新途径。
PECVD工艺参数对nc—Si：H膜质量的影响
【摘 要】
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研究了ＰＥＣＶＤ生长ｎｃ－Ｓｉ：Ｈ膜过程中ＳｉＨ４气体稀释比，平衡反应气压、衬底温度、等离子体射频功率和直流负偏压等各种工艺参数对生成膜层质量的影响，探讨了提高膜层质量的新途径。
【机 构】
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河北大学电子与信息工程系
【出 处】
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稀有金属
【发表日期】
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1998年4期
【基金项目】
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河北省自然科学基金
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