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使用高阻Si材料,通过氧化、光刻、注入和退火工艺技术研制粒子探测器——PIN二极管．采取HCl氧化、慢降温等工艺措施可减小PIN二极管的暗电流(反向电流)，这对于提高器件性能起到了关键作用．电压为-5V时,探测器的暗电流可达nA/cm2量级．讨论了器件暗电流与少子寿命的关系．
平面工艺辐射探测器的研制
【摘 要】
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使用高阻Si材料,通过氧化、光刻、注入和退火工艺技术研制粒子探测器——PIN二极管．采取HCl氧化、慢降温等工艺措施可减小PIN二极管的暗电流(反向电流)，这对于提高器件性能起到
【机 构】
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北京大学微电子所,,北京大学物理系,,中国原子能科学研究院,,China
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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2004年期
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