【摘 要】
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利用气相色谱法,在348.15～368.15K温度,测定了正己烷、正庚烷、正癸烷、甲苯和丁酮溶剂在有机硅膜中的无限稀释扩散系数,结合Vrentas-Duda自由体积模型计算得到溶剂/有机硅膜
【机 构】
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清华大学化工系膜技术与工程研究中心,清华大学化工系膜技术与工程研究中心,清华大学化工系膜技术与工程研究中心,清华大学化工系膜技术与工程研究中心,清华大学化工系膜技术与工程研究中心,大庆石化公司研究院,
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利用气相色谱法,在348.15～368.15K温度,测定了正己烷、正庚烷、正癸烷、甲苯和丁酮溶剂在有机硅膜中的无限稀释扩散系数,结合Vrentas-Duda自由体积模型计算得到溶剂/有机硅膜体系溶剂有限浓度扩散系数,在理论上预测了不同溶剂在有机硅膜中扩散特性对膜分离性能的影响,在实验和理论两个方面,为进一步研究有机硅膜分离机理打下了基础.
The infinite dilution diffusion coefficients of n-hexane, n-heptane, n-decane, toluene and butanone solvents in organic silicon films were determined by gas chromatography at 348.15-368.15 K, calculated by the Vrentas-Duda free volume model Solvent / Silicone Membrane Solvent Limited Concentration Diffusion Coefficient Predicts the Effect of Diffusion Characteristics of Different Solvents in Silicone Membrane Theory on the Performance of Membrane Separation in Theoretical and Experimental Studies. In order to further study the mechanism of organic silicon membrane separation The foundation.
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