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采用等离子体氧化方法处理镁舍佥材料时，为了获得好的镁合金氧化膜，先恒定电流，随着氧化膜厚度的生长，电压自动上升，当升至450V时，再恒定电压，降低电流，这样获得的氧化膜致密、光滑、空隙少，具有良好的耐磨和耐蚀等特性。本文对氧化膜还进行了硬度和相结构分析，指出当氧化电压低于450V时，氧化镁主要结构为MgO2；当氧化电压高于550V时，氧化镁主要结构为高温相MgO。