中微公司发布下一代刻蚀设备

来源 :电子与电脑 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiaoxie20092009

【摘要】

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中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)发布面向22nm及以下芯片生产的第二代300mm高频去耦合反应离子刻蚀设

【出处】

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电子与电脑

【发表日期】

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2011年8期

【关键词】

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　　中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)发布面向22nm及以下芯片生产的第二代300mm高频去耦合反应离子刻蚀设

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