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在SIMOX工艺制作过程中，氧离子注入的均匀性对SOI材料表面硅厚度的均匀性和SiO2埋层厚度的均匀性起着直接的决定性的作用。文章介绍了一种氧离子注入均匀性控制系统的工作原理和设计方案，该方案应用于我所研制的强流氧离子注入机，取得了理想的效果。
一种氧离子注入的均匀性控制系统设计
【摘 要】
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在SIMOX工艺制作过程中，氧离子注入的均匀性对SOI材料表面硅厚度的均匀性和SiO2埋层厚度的均匀性起着直接的决定性的作用。文章介绍了一种氧离子注入均匀性控制系统的工作原理
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十八研究所
【出 处】
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自动化与仪器仪表
【发表日期】
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2012年4期
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