本刊特邀编委介绍(三)

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卢道明,男,教授。1968年台湾成昆大学理学士,1971年乌司特综合工业大学理硕土,1976年威斯康星大学哲学博士。目前任美国罗斯利尔综合工业大学教授、系主任。从事研究不良表面、覆盖层和动态生长面的衍射;表面、界面和薄膜序列;低温薄膜的离子束/局部离子束淀积;微电子和光子应用金属、陶瓷和聚合薄膜的生长及表征。1986年获得罗斯利尔早期发展奖,1988年获得半导体研究公司(SRC)发明奖,1993年获得利罗斯利尔集成电子专科奖;1994年为纽约科学院成员和美国物理协会成员,1995年为美国真空协会成员。曾编
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