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采用磁控溅射方法，在玻璃基片上制备V掺杂非晶态TiO2薄膜，研究了射频掺杂功率、基片温度以及薄膜厚度等因素对薄膜光催化性能的影响。X射线衍射（XRD）及X光电子能谱（XPS）分析表明：薄膜为非晶态，薄膜主要成分为钛（Ti）和钒（V），其比例为8．7：1。光催化降解10mg／L的亚甲基蓝溶液实验表明：随着薄膜厚度的增加，光催化降解率递增，当厚度达129nm时，薄膜对亚甲基蓝的降解率为83．36％。