论文部分内容阅读
概述了ITRS对铜互连工艺提出的要求及90～65nmCMP技术所面临的挑战,介绍了W熏STI熏Cu/低k材料CMP及其清洗和终点检测技术的发展现状,最后讨论了CMP技术的一些发展趋势。
化学机械抛光技术现状与发展趋势
【摘 要】
：
概述了ITRS对铜互连工艺提出的要求及90～65nmCMP技术所面临的挑战,介绍了W熏STI熏Cu/低k材料CMP及其清洗和终点检测技术的发展现状,最后讨论了CMP技术的一些发展趋势。
【机 构】
：
中国电子科技集团第45研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
：
2004年06期
其他文献
茶树具有聚氟特性,是植物界氟含量最高的几种植物之一。本文主要从茶树富氟特点和分布规律、茶树氟生理等方面进行综述,并提出了茶树耐氟的5种可能机制,即茶树对氟的吸收模式
概述了集成电路 (IC)生产的基本工艺流程及其关键设备的国际国内水平 ,展望了IC制造工艺设备的发展趋势 ;同时介绍了微电子机械系统 (MEMS)的用途、发展方向及先进的IC制造技
对近年来钙钛矿型锂快离子导体的研究进展进行了综述.其中理想的钙钛矿结构ABO3为一立方面心堆积.锂离子的迁移机理有两种——二维传导机理和三维传导机理.Li3xLa2/3-xTiO3具
随着知识经济的迅猛发展，高等学校作为培养高等人才的专业机构，在未来的经济建设与社会发展中有着越来越重要的作用。同时，伴随着我国高等教育事业的改革，高校行政管理体制的改革
<正>一、光影作为媒介的可能性光影在雕塑的呈现中占据着绝对重要的位置,而通常的概念里光影都是起辅助呈现的作用。雕塑的光影也占有空间,这在大多数时候是往往被忽视的。试
期刊
近年校园暴力事件时有发生且情节愈加严重,其原因主要有学校教育和管理的失当、家庭教育功能的缺失、社会不良现象的负面影响以及政府教育资源存量不足及其配置不合理等。为
<正> 每一代新的半导体芯片都具有更精细的结构。因此,生产线通常也就需要更新的光刻设备。为组建经济实用的生产线,就必须考虑几个因素,其中很多因素在一定程度上很容易从可
<正>在习近平总书记"完全有条件成为全省乃至全国统筹城乡发展的典范"重要指示的指引下,嘉兴强化红船起航地的使命担当,坚定不移推进城乡融合发展,"千村示范、万村整治"扎实
期刊
<正>许多曾经的文学青年,自从当了语文教师之后,专心致志于教学、殚精竭虑于应试,对周遭的事物失去了兴趣与感觉,从此不再写作。偶然翻检到当年写的诗文,也恍若隔世,茫然若失
针对我国高校环境专业实习实践环节所面临的突出问题,通过研究美国、英国与日本发达国家高等学校环境专业实习实践体系及特色,建立了我国高等学校环境专业"两模块、三层次、