【摘 要】
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原工艺产生的铸件表面有磁痕聚集缺陷,利用数值模拟软件分析后,认为原因是充型过程中的紊流和飞溅导致大量氧化夹杂,以及充型后期铁液中氧化渣上浮、聚集所致。最后采取底注
【机 构】
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原工艺产生的铸件表面有磁痕聚集缺陷,利用数值模拟软件分析后,认为原因是充型过程中的紊流和飞溅导致大量氧化夹杂,以及充型后期铁液中氧化渣上浮、聚集所致。最后采取底注方式,浇注位置避开铸型和砂芯,充型前方预留足够的充型空间,内浇道前方设置陶瓷过滤网,铸件热节部位采用球铁专用发热冒口等措施,有效地解决二次氧化夹渣导致的磁痕缺陷,并防止了缩松缺陷的产生,工艺出品率得以提高。
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