论文部分内容阅读
采用直流磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列分别以Pt和Bi/Pt为底层的Co/Ni多层膜样品。通过研究Bi的厚度、周期层数、周期层中的Co和Ni的厚度以及退火温度对样品反常霍尔效应的影响,最终获得了霍尔效应最强、良好的霍尔曲线矩形度,同时具有良好的垂直各向异性的最佳样品Bi（1nm）/Pt（5nm）/[Co（0.3nm）Ni（0.5nm）]1/Co（0.3nm）/Pt（1nm）。实验表明,退火处理有利于增强反常霍尔效应。