【摘 要】
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研究了能量为64 keV、注量1×1017 cm-2的Ni离子注入金红石TiO2单晶制备的植入金属纳米晶的微观结构和磁学性能.注入层的结构和磁学性能采用透射电子显微分析(TEM)和超导
【机 构】
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电子科技大学,中国工程物理研究院,美国密西根大学
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研究了能量为64 keV、注量1×1017 cm-2的Ni离子注入金红石TiO2单晶制备的植入金属纳米晶的微观结构和磁学性能.注入层的结构和磁学性能采用透射电子显微分析(TEM)和超导量子干涉磁强计(SQUID)进行分析.结果表明,金红石单晶中有尺寸为3～18 nm的金属Ni纳米晶生成,注入区域基体明显非晶化.10 K温度下金属Ni纳米晶的矫顽力约为16.8 kA·m-1,比Ni块材的矫顽力大.样品的零场冷却/有场冷却(ZFC/FC)曲线表明,金属Ni纳米晶的截止温度约为85 K.
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