退火对NiCr薄膜阻值的影响分析

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【摘要】

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采用磁控溅射方法在Si衬底上沉积NiCr薄膜，通过金属剥离技术制备不同膜厚的NiCr薄膜电阻．对不同膜厚样品退火前后阻值的测试表明，磁控溅射沉积NiCr薄膜的晶粒较小，退火前样品阻值

【作者】

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谢生侯玉文陈朝毛陆虹陈松岩吴逢铁（英文审校）

【机构】

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天津大学电子信息工程学院,厦门大学物理系,不详

【出处】

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华侨大学学报：自然科学版

【发表日期】

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2009年1期

【关键词】

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镍铬薄膜电阻热退火磁控溅射 NiCr film resistance annealing magnetron sputtering

【基金项目】

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国家自然科学基金重点资助项目（60736035）

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采用磁控溅射方法在Si衬底上沉积NiCr薄膜，通过金属剥离技术制备不同膜厚的NiCr薄膜电阻．对不同膜厚样品退火前后阻值的测试表明，磁控溅射沉积NiCr薄膜的晶粒较小，退火前样品阻值较大．当退火温度超过350℃后，薄膜中的细小晶粒合并为较大的晶粒，晶粒间界面积减小，电阻率也相应减小；而经过450℃退火5min后，晶粒尺寸趋于饱和，进一步的退火时间对阻值的变化影响不大．

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