【摘 要】
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利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮的研究。研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必
【机 构】
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大连海事大学金属工艺所,大连海事大学金属工艺所,大连海事大学金属工艺所
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利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮的研究。研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真空设备 ,整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺。
The use of dielectric barrier discharge, self-developed equipment for atmospheric pressure non-equilibrium plasma nitriding research. The research shows that the new process not only obtains deep layer and white layer on the sample surface in a very short time, but also eliminates the necessary vacuum equipment under vacuum discharge. The whole process is simple and easy to operate, which is a very promising prospect New craft
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