【摘 要】
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利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法,在附着有催化剂的石墨片衬底上原位沉积了碳纳米管膜电极。通过正交设计方法综合研究了反应温度、镍膜厚度、沉积时间、甲烷流量对碳
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利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）方法,在附着有催化剂的石墨片衬底上原位沉积了碳纳米管膜电极。通过正交设计方法综合研究了反应温度、镍膜厚度、沉积时间、甲烷流量对碳纳米管膜电化学性能的影响。结果表明：不同条件下制备的碳纳米管膜的电化学性能有很大差异,其中起主要作用是甲烷流量和反应温度。保持工作压强（6.5×10^3Pa）和氢气的流量（100 sccm）不变,温度为700-800℃时,甲烷流量为5 sccm,N i膜厚度为150nm,生长时间为5 m in,所得碳纳米管膜电极电化学性能最佳,
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