【摘 要】
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以Ar气作为工作气体,CH4作为反应气体,利用低压反应离子镀（RLVIP）技术在Ge基底上成功制备出类金刚石（DLC）薄膜。通过拉曼光谱、Perking Elmer GX型红外光谱仪和Nano Indenter XP
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院光学系统先进制造技术重点实验室,中国科学院研究生院
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以Ar气作为工作气体,CH4作为反应气体,利用低压反应离子镀（RLVIP）技术在Ge基底上成功制备出类金刚石（DLC）薄膜。通过拉曼光谱、Perking Elmer GX型红外光谱仪和Nano Indenter XP型纳米压痕硬度测试计分别表征了类金刚石薄膜的微观结构、光学性能和机械性能。结果表明,类金刚石薄膜（ID/IG=0.918）具有较高的sp~3键含量,其硬度值达到28.6GPa,弹性模量为199.5GPa;单层膜系在8～11.5μm波段的峰值透过率为63.6%,平均透过率为62%。
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