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介绍了一种基于刻蚀的SOI深槽介质隔离(DTI)工艺.该工艺采用BOSCH刻蚀、兆清洗、多晶硅回填、刻蚀平坦化等技术,制作流程简单.其介质隔离击穿电压可以根据电路的需要行调整,并可根据氧化层厚度进行预测.其介质隔离漏电流极低.
一种基于刻蚀的SOI深槽介质隔离工艺
【摘 要】
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介绍了一种基于刻蚀的SOI深槽介质隔离(DTI)工艺.该工艺采用BOSCH刻蚀、兆清洗、多晶硅回填、刻蚀平坦化等技术,制作流程简单.其介质隔离击穿电压可以根据电路的需要行调整,
【机 构】
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模拟集成电路国家重点实验室,中国电子科技集团公司
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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2004年5期
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