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为了增加蒙脱土与有机物的相容性,研究了以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为改性剂,物料配比、反应温度与反应时间等对离子交换反应的影响,确定了制备有机蒙脱土的最佳工艺条件.对有机蒙脱土的结构进行了表征:IR证明CTAB已进入到蒙脱土的层间,XRD结果表明有机蒙脱土的层间距由1.45 nm增加到1.96 nm.研究结果表明:在最佳工艺条件下制备的有机蒙脱土具有较高的离子交换率,层间距增加.