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在康宁7059玻璃衬底上采用磁控溅射、化学水浴和近空间升华法制备CdS薄膜，在FTO、ITO、AZO衬底上采用磁控溅射法制备CdS薄膜。分别对两组CdS薄膜的形貌、结构和光学性能进行了研究，结果表明：采用不同工艺和衬底条件制备的CdS薄膜具有不同的形貌和结构，并表现出不同的光学性能。对于不同的制备技术，化学水浴法制备的CdS薄膜在520-820nm范围的光谱平均透过率最高，光学带隙最大为2．418eV，磁控溅射法制备的CdS薄膜在820-1200nm和520-1200nm范围的光谱平均透过率最高。对于不同