【摘 要】
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在以乙二胺四乙酸二钠(EDTA)为络合剂、镀液温度33℃的化学镀铜体系中,研究1. 0 mg/L 2,6-二氨基吡啶对化学镀铜过程的沉积速率、镀层表面形貌以及镀层结构的影响。结果表明,
【机 构】
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宁夏师范学院化学与化学工程学院,陕西师范大学化学化工学院应用表面与胶体化学教育部重点实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金(21561027,11764033);宁夏高等学校优秀青年教师培育基金项目(NGY2016195);宁夏科技创新领军人才项目(KJT2016004);宁夏高等学校一般科学研究项目(NGY2016173);宁夏青年拔尖人才“国家级学术技术带头人后备人选”(宁人社函[2017]787号);宁夏师范学院六盘山资源工程技术研究中心(HGZD17-03);无机化学重点学科资助(宁师院发
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在以乙二胺四乙酸二钠(EDTA)为络合剂、镀液温度33℃的化学镀铜体系中,研究1. 0 mg/L 2,6-二氨基吡啶对化学镀铜过程的沉积速率、镀层表面形貌以及镀层结构的影响。结果表明,2,6-二氨基吡啶在低温EDTA镀铜体系中是一种良好的加速剂,少量2,6-二氨基吡啶的添加能够将镀膜的沉积速率由3. 52μm/L提高到7. 56μm/L。线性扫描伏安法研究表明,2,6-二氨基吡啶通过促进甲醛氧化进而提高其还原铜离子的速率,最终加速化学镀的过程。SEM观察表明,2,6-二氨基吡啶的添加使得镀膜晶粒变得更加细小。XRD衍射分析证明,2,6-二氨基吡啶的添加能够改善镀膜晶体结构和镀膜性能,提高镀层质量。
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