射频溅射法制取ZnS·Ag发光薄膜

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用烧结ZnS·Ag蓝色荧光粉靶在钇铝柘榴石单晶基片上射频溅射制取了ZnS·Ag蓝色发光薄膜。讨论了基片温度及放电气体中H2 S的含量对薄膜发光特性的影响。实验表明 ,基片加热温度应控制在 50 0℃左右 ,放电气体中H2 S含量应控制在 0 2 %左右 ,所制得的薄膜具有和P2 2 B1荧光粉相同的发光光谱。 The ZnS · Ag blue luminescent film was prepared by the RF sputtering of the sintered ZnS · Ag blue phosphor target on the Yttrium Aluminum Garnet single crystal substrate. The effects of substrate temperature and the content of H2S in the discharge gas on the luminescent properties of the films were discussed. Experiments show that the substrate heating temperature should be controlled at about 50 0 ℃, H2S content in the discharge gas should be controlled at about 0 2%, the resulting film has the same emission spectrum and P2 2 B1 phosphors.
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