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NEC与MIRAI开发45nm节点LSI互连低k膜
NEC与MIRAI开发45nm节点LSI互连低k膜
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:valerianforever
【摘 要】
:
NEC、NEC Electronics和MIRAI Project日前宣布,已经合作采用新技术开发出一种低k膜,有望降低复杂LSI的功耗。
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2005年8期
【关键词】
:
新技术开发
NEC
LSI
ELECTRONICS
PROJECT
互连
节点
膜
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NEC、NEC Electronics和MIRAI Project日前宣布,已经合作采用新技术开发出一种低k膜,有望降低复杂LSI的功耗。
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