一种新X光掩模—单醚PPQ掩模的研制

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聚苯基单醚喹(口恶)啉(简称单醚PPQ)是从芳香族四胺和芳香族四酮缩聚而成的耐高温杂环高分子树脂。单醚PPQ薄膜由于具有高度的化学稳定性、光学透明,X射线吸收系数小而成为有前途X光掩模材料之一。文中详细介绍了单醚PPQ掩模制备工艺及其性能的测定。最后探讨了这种掩模的稳定性。 Polyphenylene ether monoethanolamine (abbreviated as monoether PPQ) is a high temperature resistant heterocyclic polymer resin obtained from polycondensation of aromatic tetramine and aromatic tetracanone. Single ether PPQ film is one of promising X-ray photomask materials because of its high chemical stability, optical transparency and small X-ray absorption coefficient. In this paper, the preparation process of single ether PPQ mask and the determination of its properties are described in detail. Finally, the stability of this mask is discussed.
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