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采用脉冲激光沉积（PLD）方法在Si（100）衬底上制备了NaF薄膜。在激光重复频率2 Hz,能量密度3 J/cm^2,本底真空度5×10^-5Pa的条件下,研究衬底温度对薄膜沉积速率及结构的影响。台阶仪分析表明：薄膜的沉积速率随衬底温度增加呈指数函数增加,算出NaF薄膜的反应激活能为48.67kJ/mol。原子力显微镜分析表明：薄膜致密而光滑,均方根粗糙度为0.553nm。扫描电镜截面微观形貌分析表明：薄膜呈现柱状结构。X射线衍射分析表明：NaF薄膜为面心立方晶体结构,并具有显著的择优取向;当