【摘 要】
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为了弥补目前采用的各种镀层厚度测量方法之不足,本文提出利用镀层元素一次X光激发的基底金属二次荧光进行膜厚测量的设想,并推导出相应的计算公式。在扫描电镜—X射线能谱仪
【机 构】
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哈尔滨工业大学分析测试中心,哈尔滨工业大学分析测试中心
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为了弥补目前采用的各种镀层厚度测量方法之不足,本文提出利用镀层元素一次X光激发的基底金属二次荧光进行膜厚测量的设想,并推导出相应的计算公式。在扫描电镜—X射线能谱仪及电子探针仪上对不同镀膜厚度样品的镀层及基底元素的荧光强度进行测量并按上述公式计算出镀膜厚度,其数值与扫描电镜截面法直接测量的结果吻合,证明这种方法是适用的。与电镜下直接测量膜厚的方法相比,二次荧光法不破坏样品的完好性,而且可以同时对镀层的表面质量进行观察和分析。
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