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期刊论文
优化的基于模型的光学邻近矫正算法
优化的基于模型的光学邻近矫正算法
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wearetian
【摘 要】
:
提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实
【作 者】
:
蔡懿慈
王旸
周强
洪先龙
【机 构】
:
清华大学计算机科学与技术系
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2005年3期
【关键词】
:
光刻
光学邻近效应
基于模型的光学邻近矫正
optical lithographyOPEmodel-based OPC
【基金项目】
:
国家自然科学基金资助项目(批准号:90307017)~~
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提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.
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