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虽然集成电路制造工艺在快速发展,但始终都是以几种主要的制造工艺为基础。文章介绍了0.18μm CMOS反相器的主要工艺流程,并对集成电路的主要制造工艺作了简要分析。
简析0.18μm CMOS反相器的主要工艺流程
【摘 要】
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虽然集成电路制造工艺在快速发展,但始终都是以几种主要的制造工艺为基础。文章介绍了0.18μm CMOS反相器的主要工艺流程,并对集成电路的主要制造工艺作了简要分析。
【机 构】
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常州工学院电子信息与电气工程学院
【出 处】
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常州工学院学报
【发表日期】
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2009年1期
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