【摘 要】
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在同步辐射应用中,光学元件被污染是一个常见问题,而光学元件的污染会造成光通量的极大损失.为了有效地清洗光学元件,研究了清洗过程中的光化学反应,进行了氧气在同步辐射光
【机 构】
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中国科学技术大学,精密机械与精密仪器系,安徽,合肥,230027中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029
【出 处】
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2007中德双边高级专家X射线光学研讨会
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在同步辐射应用中,光学元件被污染是一个常见问题,而光学元件的污染会造成光通量的极大损失.为了有效地清洗光学元件,研究了清洗过程中的光化学反应,进行了氧气在同步辐射光作用下分解的实验。通过对实验中产生的气体成份分析,进行光化学反应研究.首先,测量通氧气时的气体成份;然后,测量通氧气和同步辐射光照时的气体成份.通过两者比较,分析氧气分解的情况.实验结果表明,氧分子在同步辐射光作用下发生分解,产生质量数为16的氧原子、氧离子和质量数为48的臭氧,它们的成份分别占1％和0.005％～0.01％.
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