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用磁控反应溅射法制备了ＺｎＯ：Ａｌ薄膜，研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌，并对ＺｎＯ：Ａｌ薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了ＸＰＳ和ＡＥＳ分析，同时也讨论了薄膜的光学电学性能。
透明导电氧化物ZnO：Al（ZAO）薄膜的研究
【摘 要】
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用磁控反应溅射法制备了ＺｎＯ：Ａｌ薄膜，研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌，并对ＺｎＯ：Ａｌ薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了ＸＰＳ和ＡＥＳ分析，同时也讨论了薄膜的光学电学性能。
【机 构】
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中国科学院金属研究所
【出 处】
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金属学报
【发表日期】
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2000年1期
【基金项目】
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沈阳市科技攻关项目资助
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