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通过平面镀铜和凹槽镀铜试验,讨论了不同工艺条件下镀铜沉积速度和副反应对镀层性质的影响;并对化学镀铜液中各种络合剂和添加剂进行电化学测试分析,选择合适的络合剂和添加剂以及相应的条件,避免凹槽镀铜中空洞或缝隙产生.
凹槽中化学镀铜
【摘 要】
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通过平面镀铜和凹槽镀铜试验,讨论了不同工艺条件下镀铜沉积速度和副反应对镀层性质的影响;并对化学镀铜液中各种络合剂和添加剂进行电化学测试分析,选择合适的络合剂和添加
【机 构】
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中南大学冶金学院
【出 处】
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腐蚀与防护
【发表日期】
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2003年2期
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