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在316L不锈钢片表面上用离子束辅助沉积(IBAD)和溅射沉积加上离子注入方法制备Si-C薄膜,测量氚通过钢片的渗透率,并用XPS,AES,XRD及TEM等分析薄膜的成分和结构,结果表明,改性膜使不锈钢的氚渗透降低近5个数量级,随着制备条件的汪同,膜中的C/Si原子比不同,用双靶(Si,C)加C离子轰击的IBAD方法可得到的较高的C/Si比,改性膜中形成了Si-C化学键,Si-和C-悬键在存在可有