【摘 要】
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本文研究了脉冲磁场对气体氮化的氮化层深度、化合物层厚度、氮化层组织及其硬度的影响。实验结果表明,脉冲磁场氮化后氮化层深度和化合物层厚度均大于常规氮化,氮化层中的氮
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本文研究了脉冲磁场对气体氮化的氮化层深度、化合物层厚度、氮化层组织及其硬度的影响。实验结果表明,脉冲磁场氮化后氮化层深度和化合物层厚度均大于常规氮化,氮化层中的氮浓度分布和硬度分布也不同于常规氮化,脉冲磁场对气体氮化过程具有一定的加速作用。
In this paper, the effects of pulsed magnetic field on the nitrided layer depth, compound layer thickness, nitride layer structure and hardness of nitrided layer were investigated. The experimental results show that the depth of nitride layer and the thickness of compound layer after nitriding are larger than that of conventional nitriding. The nitrogen concentration distribution and hardness distribution in the nitride layer are also different from those of conventional nitriding. The pulsed magnetic field has a definite effect on gas nitriding The acceleration effect.
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