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常温下采用射频磁控溅射技术在Pt／Ti／SiO2／Si（100）基片上淀积（Pb0．9 La0．1）TiO3薄膜，分别在550℃、570℃、600℃、630℃退火1h。采用X射线衍射，原子力显微镜和压电响应力显微镜检测不同退火温度的薄膜，讨论退火温度对薄膜结构、表面形貌和电畴结构的影响。结果表明：随着退火温度的升高，薄膜中钙钛矿相的含量增多，表面粗糙度和颗粒尺寸不断增大，薄膜从无畴状态变为以90°畴为主的多畴，而在退火升降温过程中，由于应力的影响，面外畴更多为取向向下的负畴。