集成电路压印光刻中压印模具的保真度研究

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传统的光刻生产工艺,有不可克服的光学极限。压印光刻法为集成电路的生产提供了一种快速、经济的方案。采用电子束直写、步进制模、压印翻制的压印模具生产工艺,其模具的制造是目前面临的难点。为了获得高质量的压印模具,着重从固化剂的添加量、固化温度及时间等方面进行分析和研究。通过考查压印模具的平整度、均一性、特征尺寸及模具表面的固化收缩率等的变化,得到了压印模具制作的最佳工艺组合。
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