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用射频-直流辉光放电系统制备类金刚石薄膜,研究了极板负偏压(V)对类金刚薄膜性质的影响。结果表明,类金刚石薄膜的性质明显依赖于极板负偏压,在所研究的范围(-300-900V)内,随V绝对值的增加,薄膜的折射率,消光系数,生长速率,及硬度增加,电阻率下降,V的变化使膜中H一及sp^3/sp^2的比例发生变化,从而使膜的性质发生变化。