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为了研究连续激光晶化非晶硅薄膜中激光功率密度对晶化效果的影响，利用磁控溅射法制备非晶硅薄膜，采用连续氩氪混合离子激光器对薄膜进行退火晶化，用显微喇曼光谱测试技术和场发射扫描电子显微镜研究了薄膜在5ms固定时间下不同激光功率密度对晶化效果的影响，并对比了普通玻璃片和石英玻璃两种衬底上薄膜晶化过程的差异。结果表明，在一定激光功率密度范围内（OkW／cm^2-27．1kW／cm^2），当激光功率密度大于15．1kW／cm^2时，普通玻璃衬底沉积的非晶硅薄膜开始实现晶化；随着激光功率密度的增大，晶化效果先逐渐变好