磨牙髓室底垫底厚度对全瓷嵌体冠应力分布的影响

来源 :牙体牙髓牙周病学杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户:seaw2008
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目的:模拟磨牙根管治疗后全瓷嵌体冠修复的有限元模型,分析髓室底垫底厚度对应力分布的影响。方法:利用Micro-CT扫描数据建立离体下颌第一磨牙三维有限元模型,模拟复合邻面洞型并用嵌体冠进行修复。根据玻璃离子垫底厚度不同分为0(空白组)、1、2、5 mm(窝洞填平)组,然后分别采用轴向和45°斜向静态加载模式对模型加载280 N和105 N的力,观察不同部位的应力分布情况,分析比较应力集中部位及相应部位应力峰值的差异。结果:不同垫底厚度在相同的加载条件下,应力的集中部位相似。与0 mm组相比,当垫底厚度为1 mm,轴向加载时,髓室底的等效应力减小13.8%(45°加载时减小26.8%),粘结层剪切应力减小1.1%(45°加载时增加1.4%),远中肩台应力减少3.0%(45°加载时增加1.3%);垫底厚度为2 mm,轴向加载时,髓室底的等效应力减小31.1%(45°加载时减小41%),粘结层的剪切应力增加3.7%(45°加载时增加33.2%),远中肩台的等效应力减小0.6%(45°加载时增加1.6%);垫底厚度为5 mm,轴向加载时,髓室底的等效应力减小37%(45°加载时减小49.1%),粘结层的剪切应力增加13%(45°加载时增加47.2%),远中肩台的等效应力增加7.3%(45°加载时增加10.5%)。结论:对根管治疗后的磨牙嵌体冠修复时,较薄的垫底厚度有利于剩余牙体和嵌体冠的稳定。
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