掺硼对非晶碳化硅膜的影响

来源 :材料科学与工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yshanhong
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试验观测了掺硼对氢化非晶碳化硅膜生长速度,膜的组分,光学带隙,电导率,硬度和结合力的影响。结果证明,用等离子体分解(SiH4和CH4)混合气体制备的α-Si1-xCx:H膜能有效的掺杂。硼掺杂可改变光学带隙,电导率和硬度。退火可增加薄膜的硬度和结合力。
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