【摘 要】
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在偏铝酸钠-氢氧化钠-EDTA混合溶液中,采用恒压模式对氢化锆表面进行微弧氧化处理。借助场发射扫描电镜（FE-SEM）、X射线衍射仪（XRD）及真空脱氢实验,研究了不同正向电压（350-425 V）
【机 构】
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内蒙古工业大学材料科学与工程学院,西安交通大学宽禁带半导体材料与器件研究中心
【基金项目】
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国家自然科学基金（51164023,51364026）, 内蒙古自然科学基金（2016MS0505）, 内蒙古工业大学科学研究项目（X201410）
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在偏铝酸钠-氢氧化钠-EDTA混合溶液中,采用恒压模式对氢化锆表面进行微弧氧化处理。借助场发射扫描电镜（FE-SEM）、X射线衍射仪（XRD）及真空脱氢实验,研究了不同正向电压（350-425 V）对微弧氧化膜层表面、截面、相结构及阻氢渗透性能的影响。分析结果表明：微弧氧化过程大致由阳极氧化、火花放电、微弧氧化和熄弧四个阶段组成。制备的膜层分为致密层和疏松层,致密层所占比例约为80%。随着正向电压的增大,晶粒尺寸增大,晶面间距减小,氢化锆表面微弧氧化膜层厚度由122μm增加至150μm,膜层的增长速度也随
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