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通过大量工艺实验，镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源系统（主回路电,脉冲频率），基片高度以及磁场等工艺参数的样品，选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量，获得了离子源各种工艺参数对其发射特性影响的曲线。
脉冲真空电弧离子镀发射特性的测量
【摘 要】
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通过大量工艺实验，镀制了改变脉冲真空电弧离子源电源系统（主回路电,脉冲频率），基片高度以及磁场等工艺参数的样品，选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量，获得了离子源
【机 构】
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西北交通大学电气工程学院,西安工业学院光电工程与科学系
【出 处】
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光学仪器
【发表日期】
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2001年5期
【基金项目】
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陕西省自然科学基金
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