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首次在多孔硅（ＰＳ）的表面镀纳米二氧化钛（ＴｉＯ２）薄膜，表面光电压谱（ＳＰＳ）测试表明：镀膜后多孔硅的光电压信号增强约２～３个数量级，其原因可能是双异质结构ＴｉＯ２／ＰＳ／ｐ－Ｓｉ能所效地吸收近红外一直到紫外光，并且近本征的多孔硅自建电场增大，使光生电子－空穴对能有效地分离；ＰＳ／ｐ－Ｓｉ之间的势垒差产生的阻止少子向电极扩散的背向电场，也能有效地增强光生电压。