立方氮化硼薄膜表面的XPS研究

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【摘要】

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研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方

【作者】

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邓金祥陈浩陈光华刘钧锴宋雪梅朱秀红王波严辉

【机构】

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北京工业大学

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2004年z1期

【关键词】

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立方氮化硼薄膜表面 X射线光电子能谱

【基金项目】

：

国家自然科学基金资助项目(60376007)

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研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O.从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90,较接近于氮化硼的理想化学配比1:1;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比1:1较远.计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm.

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